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UV-vis是简便且常用的对无机物和有机物的有效表征手段，泉区气常用于对液相反应中特定的产物及反应进程进行表征，如锂硫电池体系中多硫化物的测定。利用原位表征的实时分析的优势，委书来探究材料在反应过程中发生的变化。

记企它是由于激发光电子经受周围原子的多重散射造成的。XANES X射线吸收近边结构（XANES）又称近边X射线吸收精细结构（NEXAFS），联合临科林电是吸收光谱的一种类型。近日，导带队莅王海良课题组利用XANES等先进表征技术研究富含缺陷的单晶超薄四氧化三钴纳米片及其电化学性能（Adv.EnergyMater.2018,8,1701694）,如图一所示。

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该研究工作利用了XANES等技术分析了富含缺陷的四氧化三钴的化学环境，委书从而证明了其中氧缺陷的存在及其相对含量。

Fig.2In-situXRDanalysisoftheinteractionsduringcycling.（a）XRDintensityheatmapfrom4oto8.5oofa2.4mgcm–2cellsfirstcycledischargeat54mAg–1andchargeat187.5mAg–1,wheretriangles=Li2S,square=AQ,asterisk=sulfur,andcircle=potentiallypolysulfide2θ.(b)ThecorrespondingvoltageprofileduringtheinsituXRDcyclingexperiment.材料形貌表征在材料科学的研究领域中，记企常用的形貌表征主要包括了SEM，记企TEM，AFM等显微镜成像技术。市场的发展必须得迎合消费者的需求，联合临科林电随着环境质量的越来越严重，联合临科林电消费者对生活品质提出更高的要求，他们需要更健康的空气，更高效的手段，更安全的电器。

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